磁控濺射鍍膜設(shè)備報(bào)價(jià)-磁控濺射鍍膜設(shè)備-沈陽(yáng)鵬程真空技術(shù)公司

濺射鍍膜
濺射鍍膜就是在真空中利用荷能粒子轟擊靶表面，使被轟擊出的粒子沉積在基片上的技術(shù)。通常，磁控濺射鍍膜設(shè)備報(bào)價(jià)，利用低壓惰性氣體輝光放電來(lái)產(chǎn)生入射離子。陰*靶由鍍膜材料制成，基片作為陽(yáng)*，真空室中通入0.1-10pa的氣或其它惰性氣體，在陰*（靶）1-3kv直流負(fù)高壓或13.56mhz的射頻電壓作用下產(chǎn)生輝光放電。電離出的離子轟擊靶表面，磁控濺射鍍膜設(shè)備，使得靶原子濺出并沉積在基片上，形成薄膜。濺射方法很多，主要有二級(jí)濺射、三級(jí)或四級(jí)濺射、磁控濺射、對(duì)靶濺射、射頻濺射、偏壓濺射、非對(duì)稱交流射頻濺射、離子束濺射以及反應(yīng)濺射等。
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雙靶磁控濺射鍍膜機(jī)的特點(diǎn)有哪些？
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產(chǎn)品特點(diǎn)
1：此款鍍膜儀配置有兩個(gè)靶：一個(gè)靶配套的是射頻電源，用于非導(dǎo)電靶材的濺射鍍膜；一個(gè)靶配套的是直流電源，磁控濺射鍍膜設(shè)備多少錢，用于導(dǎo)電材料的濺射鍍膜
2：該鍍膜儀可以制備多種不同材料的薄膜，應(yīng)用非常廣泛。
3：該鍍膜儀體積較小，磁控濺射鍍膜設(shè)備價(jià)格，且配備有觸摸屏控制面板，操作方便。
臥式磁控濺射鍍膜機(jī)
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主要用途：
用于納米級(jí)單層及多層功能膜、硬質(zhì)膜、金屬膜、半導(dǎo)體膜、介質(zhì)膜等新型薄膜材料的制備。廣泛應(yīng)用于大專院校、科研院所的薄膜材料科研與小批量制備。
系統(tǒng)組成:
主要由真空室系統(tǒng)濺射室、靶及電源系統(tǒng)、樣品臺(tái)系統(tǒng)、真空抽氣及測(cè)量系統(tǒng)、氣路系統(tǒng)、控制系統(tǒng)、電控系統(tǒng)、計(jì)算機(jī)控制系統(tǒng)及輔助系統(tǒng)等組成。
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