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鍍膜機(jī)真空鍍膜技術(shù)的特點(diǎn)，真空鍍膜技術(shù)主要有真空蒸發(fā)鍍、真空濺射鍍、真空離子鍍、真空束流沉積、化學(xué)氣相沉積等多種方法。除化學(xué)氣相沉積法外
(1)各種鍍膜技術(shù)都需要一個(gè)特定的真空環(huán)境
(2)各種鍍膜技術(shù)都需要有一個(gè)蒸發(fā)源或靶子，以便把蒸發(fā)制膜的材料轉(zhuǎn)化成氣體。由于源或靶的不斷改進(jìn)，大大擴(kuò)大了制膜材料的選用范圍，氣相沉積設(shè)備廠(chǎng)商，
(3)蒸發(fā)或?yàn)R射出來(lái)的制膜材料，在與待鍍的工件生成薄膜的過(guò)程中，對(duì)其膜厚可進(jìn)行比較的測(cè)量和控制，從而保證膜厚的均勻性。
濺射鍍膜的操作與濺射鍍膜設(shè)備是密切相關(guān)的。目前商業(yè)上已有很精制的設(shè)備安裝在顯微鏡下的載物臺(tái)的位置上。濺射鍍膜時(shí)，將拋光的試樣安放在式樣頭具上，傾轉(zhuǎn)到面對(duì)電子槍(陰*)的位置，調(diào)節(jié)濺射室中的氣壓，輝光放電
鍍膜技術(shù)在平板顯示器中的應(yīng)用 所有各類(lèi)平板顯示器都要用到各種類(lèi)型的薄膜，而且?guī)缀跛蓄?lèi)型的平板顯示器件都需要使用ito膜，以滿(mǎn)足透明電器的要求?？梢院敛豢鋸埖恼f(shuō)：沒(méi)有薄膜技術(shù)就沒(méi)有平板顯示器件。
鍍膜技術(shù)在太陽(yáng)能利用方面的應(yīng)用 當(dāng)需要有效地利用太陽(yáng)熱能時(shí)，就要考慮采用對(duì)太陽(yáng)光線(xiàn)吸收較多、而對(duì)熱輻射等所引起的損耗較小的吸收面。太陽(yáng)光譜的峰值大約在波長(zhǎng)為2-20μm之間的紅外波段。由于太陽(yáng)輻射與熱輻射光譜在波段上有差異，因此，為了有效的利用太陽(yáng)熱能，新北氣相沉積設(shè)備，就必須考慮采用具有波長(zhǎng)選擇特性的吸收面。理想的選擇吸收面是太陽(yáng)輻射光譜的波段（可見(jiàn)光波段）吸收率（α）為1，在熱輻射波段（紅外波段）輻射率（ε）為0。
鍍膜技術(shù)在防偽技術(shù)中的應(yīng)用 防偽膜種類(lèi)很多，從使用方法可分為反射式和透射式；從膜系附著方式可以分為直接鍍膜式、間接鍍膜式或間接鍍膜剪貼式。
鍍膜技術(shù)在飛機(jī)防護(hù)涂層方面的應(yīng)用 飛機(jī)的鈦合金緊固件，原來(lái)采用電鍍方法鍍鎘。但在鍍鎘中含有氫，所以在飛行過(guò)程中，受到大氣、海水的腐蝕，鍍層上容易產(chǎn)生“鎘脆”，甚至引起“空難”。1964年，采用離子鍍方法在鈦合金緊固件上鍍鋁，氣相沉積設(shè)備廠(chǎng)家，解決了飛機(jī)零件的“鎘脆”問(wèn)題。在離子鍍技術(shù)中，由于給工件施加負(fù)偏壓，可以形成“偽擴(kuò)散層”、細(xì)化膜層組織，因此可以顯著提高膜層的耐腐蝕性能。
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